ITO靶材在磁控溅射过程中的毒化现象
2025-02-12

研究直流磁控反应溅射ITO膜过程中ITO靶材的毒化现象,用XRD,EPMA,LECO测氧仪等手段对毒化发生的机理进行分析,并对若干诱导因素进行讨论,研究表明ITO靶材毒化是由于In2O3主相分解为In2O造成的,靶材性能及溅射工艺缺陷都可能诱导毒化发生.